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中国研制成功18英寸直拉硅单晶

2003年1月28日

    
    中国第一根直径18英寸(450毫米)直拉硅单晶11月初在北京有色金属研究总院研制成功,标志着中国大直径硅单晶研究进入世界领先行列,将提高中国半导体材料工业技术的研究水平,推动集成电路和信息产业的进一步发展。
    
    作为现代经济先导产业的信息产业,其核心是集成电路产业。全世界以集成电路为核心的电子元器件,95%以上是用硅材料制成的,而其中直拉硅单晶的用量超过85%。为提高集成度和降低制造成本,迫切要求集成电路的生产制造采用更大直径的直拉硅单晶抛光片。直径18英寸硅单晶抛光片是未来22纳米线宽64G集成电路的衬底材料,目前国际上仍处于基础研究阶段。
    
    北京有色金属研究总院密切关注世界集成电路技术的发展趋势,紧跟国际技术发展前沿,为未来的长期稳定发展进行技术储备,形成了具有中国自主知识产权的大直径硅单晶制备技术。他们分别于1992年、1995年和1997年研制成功国内第一根直径6英寸、8英寸和12英寸直拉硅单晶;于2001年建成中国第一条直径8英寸硅抛光片生产线,为中国0.25-0.5微米集成电路生产提供最重要的基础功能材料。