国际纳米技术年会美大学揭幕 多名华裔专家发言
2009年05月20日 14:11 来源:中国侨网
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中国侨网消息:据美国《世界日报》报道,第五届国际纳米技术年会5月18日至21日期间在洛杉矶加州大学举行,约50位来自世界各地专家发表演说,讨论纳米技术研究的国家合作与发展。
会议主题是如何通过国际纳米研究的学术交流,促进纳米技术在各个领域的实用性,从而促进经济发展。来自亚洲、欧洲、美洲的学者们将带来当地纳米技术的研究和应用报告。
年会将重点讨论纳米技术应用于生物科技、材料制造、光子学、微小系统等方面遇到的挑战和瓶颈及解决方法。
在大会发言的华裔专家,包括美国农业部研究员陈宏达(音译),将探讨纳米技术在农业、林业和食品工业的应用;另有半导体界名人、柏克莱加大教授胡成明,他个人拥有五本半导体著作和15项专利。(马云)