中国侨网消息：据台湾《联合报》报道，美国专利商标局“国家发明奖名人堂”今年度入选者颁奖典礼当地时间5月2日在加州山景城“计算机历史博物馆”举行。贝尔实验室半导体研究副总裁卓以和(Alfred Cho)是今年唯一获奖的华裔科学家，他也是继个人计算机先驱王安之后第二位入选此名人堂的华裔。

　　今年是集成电路发明50周年，包括卓以和在内的15位名人堂获奖者都是半导体相关领域有杰出贡献人士。这也是国家发明奖名人堂首次在硅谷举办新入选人士颁奖仪式。

　　卓以和表示，这次获奖是一项非常高的荣誉，他感到非常荣耀。他指出，国家发明奖不是由公司或私人提名，而是由华盛顿的美国专利商标局提名，代表认可获奖者在提高人类科学技术水平所作贡献。

　　他指出，在过去的国家发明奖名人堂历史中，只有王安一位华裔入选。他作为第二位入选的华裔科学家，感到很自豪。

　　谈到自己成功的原因时，卓以和表示，成功的秘诀在于80%的努力，加上20%的机会和灵感。要把每天的工作当成乐趣，才有成功的希望。此外，他表示，自己有幸在贝尔实验室这样的权威机构工作，能经常和许多非常聪明的工程师相互交流，又有长期稳定的研究经费，这些都是成功的重要条件。

　　卓以和1937年出生于北京，1955年赴美留学。他以发明分子束磊晶闻名，被尊称为“束磊晶之父”。此项技术能让有序材料以单原子层为单位进行生长，可用于电子产业高端设备，令半导体技术产生重大改变。 (周喆)